中國(guó)儀器進(jìn)出口集團(tuán) 對(duì)下列產(chǎn)品及服務(wù)進(jìn)行國(guó)際公開競(jìng)爭(zhēng)性招標(biāo),于2024-03-29在公告。本次招標(biāo)采用傳統(tǒng)招標(biāo)方式,現(xiàn)邀請(qǐng)合格投標(biāo)人參加投標(biāo)。1、招標(biāo)條件項(xiàng)目概況:設(shè)備名稱:蒸發(fā)臺(tái)設(shè)備數(shù)量:3臺(tái)設(shè)備用途:通過真空泵組排氣,在具有加熱除氣功能且密閉性良好的腔室中建立高真空環(huán)境。當(dāng)腔室內(nèi)部達(dá)到本底真空后,利用電子束蒸發(fā)Ti、Pt、Au、Cr、Ta等材料,使其均勻沉積在晶圓表面,以獲取相應(yīng)制備材料的金屬薄膜。資金到位或資金來源落實(shí)情況:資金已到位項(xiàng)目已具備招標(biāo)條件的說明:已具備2、招標(biāo)內(nèi)容招標(biāo)項(xiàng)目編號(hào):0709-244035614017招標(biāo)項(xiàng)目名稱:8英寸MEMS晶圓生產(chǎn)線之蒸發(fā)臺(tái)項(xiàng)目實(shí)施地點(diǎn):中國(guó)安徽省招標(biāo)產(chǎn)品列表(主要設(shè)備):
3、投標(biāo)人資格要求投標(biāo)人應(yīng)具備的資格或業(yè)績(jī):(1)投標(biāo)人是響應(yīng)招標(biāo)、已在招標(biāo)人或招標(biāo)機(jī)構(gòu)處領(lǐng)購(gòu)招標(biāo)文件并參加投標(biāo)競(jìng)爭(zhēng)的法人或其他組織。任何未在招標(biāo)人或招標(biāo)機(jī)構(gòu)處領(lǐng)購(gòu)招標(biāo)文件的法人或其他組織均不得參加投標(biāo)。(2)凡是來自中華人民共和國(guó)或是與中華人民共和國(guó)有正常貿(mào)易往來的國(guó)家或地區(qū)的法人或其他組織均可投標(biāo)。(3)與招標(biāo)人存在利害關(guān)系可能影響招標(biāo)公正性的法人或其他組織不得參加投標(biāo)。(4)接參與項(xiàng)目前期咨詢和招標(biāo)文件編制的法人或其他組織不得參加一家代理商參與本項(xiàng)目投標(biāo)。同一品牌的制造商和代理商不能同時(shí)參加本項(xiàng)目的投標(biāo)。(11)投標(biāo)人可以是設(shè)備制造廠家或設(shè)備授權(quán)代理商,代理商需有設(shè)備原廠家的有效授權(quán)書;并且具有設(shè)備技術(shù)支持和服務(wù)能力。(12)投標(biāo)人可以是設(shè)備制造廠家或設(shè)備再制造廠商,也可以是設(shè)備授權(quán)代理商,代理商需有設(shè)備原廠家的有效授權(quán)書;并且具有設(shè)備技術(shù)支持和服務(wù)能力。要求2020年至今同類型設(shè)備出貨量與驗(yàn)收數(shù)量大于【10】臺(tái),國(guó)產(chǎn)設(shè)備與再制造廠商提供合同和驗(yàn)收材料,進(jìn)口全新設(shè)備出具蓋章的業(yè)績(jī)說明材料。是否接受聯(lián)合體投標(biāo):不接受未領(lǐng)購(gòu)招標(biāo)文件是否可以參加投標(biāo):不可以4、
未曾在中國(guó)電力招標(biāo)采購(gòu)網(wǎng)(www.yzpb.com.cn)上注冊(cè)會(huì)員的單位應(yīng)先注冊(cè)。登錄成功后根據(jù)招標(biāo)公告的相說明下載投標(biāo)文件!
項(xiàng)目 聯(lián)系人:李楊
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備注:欲購(gòu)買招標(biāo)文件的潛在投標(biāo)人,注冊(cè)網(wǎng)站并繳納因特網(wǎng)技術(shù)服務(wù)費(fèi)后,查看項(xiàng)目業(yè)主,招標(biāo)公告,中標(biāo)公示等,并下載資格預(yù)審范圍,資質(zhì)要求,招標(biāo)清單,報(bào)名申請(qǐng)表等。為保證您能夠順利投標(biāo),具體要求及購(gòu)買標(biāo)書操作流程按公告詳細(xì)內(nèi)容為準(zhǔn),以招標(biāo)業(yè)主的解答為準(zhǔn)本。
編輯:chinabidding.co
序號(hào) | 產(chǎn)品名稱 | 數(shù)量 | 簡(jiǎn)要技術(shù)規(guī)格 | 備注 |
1 | evaporation table | 3Set | Process chamber background vacuum: better than 3E-7Torr; Vacuum pumping speed: 30 minutes at room temperature from the atmosphere to 3E-6Torr or better; Vacuum chamber leakage rate: < 7.5E-10Torr?L/s; When the cold pump is working > |
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