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低應力高致密薄膜沉積設備(ICPCVD)中標結果公告(1)

   2024-11-06 0
核心提示:【中國國際招標網】項目名稱:低應力高致密薄膜沉積設

【中國國際招標網】

項目名稱:低應力高致密薄膜沉積設備(ICPCVD)

招標項目編號:0664-2440SUMECK10/02

招標范圍:低應力高致密薄膜沉積設備(ICPCVD)

招標機構:蘇美達國際技術貿易有限公司

招標人:蘇州第三代半導體技術國創中心

開標時間:2024-10-22 14:00

公示時間:2024-10-31 14:16 - 2024-11-04 23:59

中標結果公告時間:2024-11-05 18:55

中標人:Shintec Equipment Co., Limited

制造商:Oxford Instruments Nanotechnology Tools Limited, trading as Oxford Instruments Plasma Technology

制造商國家或地區:英國

編輯:chinabidding.mofcom.gov
 
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